碳化硅(SiC) 、氧化铝(Al2O3) 和氮化硅（Si3N4）是优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途。宇宙火箭和导弹中，大量用钛代替钢铁。(1)Al的离子结构示意图为 :middle;" src="http://tikucommon-zs.oss-cn-beijing.aliyuncs.com/tiku/source/image/10922/shl00085952.png">（1分） 2Al +2OH-+2H2O＝2AlO2 + 3H2↑ (2分）（2）Si3N4 +16HF＝3SiF4 + 4NH4F （2分）（3）①0.03mol／(L·min) ②11:12 ③x=2 （1分/空 ；Al与NaOH溶液反应的离子方程式为若没有带单位不得分）（4）TiO2(s)＋2Cl2(g)+2 C(s) ===TiCl4(l)＋ 2 CO(g) ΔH ＝ - 80 kJ·mol－1(2分） (2)氮化硅抗腐蚀能力很强，但易被氢氟酸腐蚀，氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐，其反应方程式为 （3）工业上用化学气相沉积法制备氮化硅，其反应如下：3SiCl4(g) + x N2(g) + 6 H2(g)Si3N4(s) + 12 HCl(g) △H＜0在恒温、恒容时，分别将0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2 L密闭容器内，进行上述反应，5 min达到平衡状态，所得HCl(g)为0.3mol/L、 N2为0.05 mol/L① H2的平均反应速率是 ② 反应前与达到平衡时容器内的压强之比= ③ 系数 x = (4)已知：TiO2(s)＋2Cl2(g)===TiCl4(l)＋O2(g) ΔH1＝＋140 kJ·mol－1C(s)＋O2(g)=== CO(g) ΔH2 ＝－110 kJ·mol－1写出TiO2和焦炭、氯气反应生成TiCl4和CO气体的热化学方程式： 。试题及答案-填空题-云返教育